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一种多层薄膜同步辐照装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201620352214.X
  • IPC分类号:B65H23/26;G21K5/00
  • 申请日期:
    2016-04-25
  • 申请人:
    上海恩捷新材料科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种多层薄膜同步辐照装置
申请号CN201620352214.X申请日期2016-04-25
法律状态暂无申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B65H23/26IPC分类号B;6;5;H;2;3;/;2;6;;;G;2;1;K;5;/;0;0查看分类表>
申请人上海恩捷新材料科技股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区南芦公路155号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海恩捷新材料科技有限公司当前权利人上海恩捷新材料科技有限公司
发明人程跃;李晓晨;顾挺;王伟强
代理机构北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)代理人黄冠华
摘要
本实用新型公开了一种多层薄膜同步辐照装置,包括收放卷装置,辐照室和流转线,收放卷装置通过电机带动,进行同步收放卷,流转线一端深入辐照室,使在流转线上流转的薄膜在辐照室内进行辐照加工,另一端伸出辐照室,与收放卷装置衔接,流转线包括第一导向辊、第二导向辊、内牵引辊、外牵引辊、进向压辊和出向压辊,第一导向辊、内牵引辊和外牵引辊从辐照室向收放卷装置的方向依次呈直线排列,第二导向辊位于外牵引辊和收放卷装置之间,与外牵引辊呈角度排列,进向压辊和出向压辊分别位于外牵引辊上下两侧,并与外牵引辊协同压紧并传送经过外牵引辊送出和收回的薄膜,使薄膜材料在辐照时能够稳定地通过电子束源,同时实现多层薄膜同步辐照。

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