加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

显示装置及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610809456.1
  • IPC分类号:H01L21/77
  • 申请日期:
    2014-11-21
  • 申请人:
    株式会社半导体能源研究所
著录项信息
专利名称显示装置及其制造方法
申请号CN201610809456.1申请日期2014-11-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-05-10公开/公告号CN106653685A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/77IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人株式会社半导体能源研究所申请人地址
日本神奈川县厚木市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社半导体能源研究所当前权利人株式会社半导体能源研究所
发明人山崎舜平;大野正胜;安达广树;井户尻悟;武岛幸市
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人叶晓勇;姜甜
摘要
本发明题为显示装置及其制造方法。在第一衬底上形成第一有机树脂层,在第一有机树脂层上形成第一绝缘膜,在第一绝缘膜上形成第一元件层,在第二衬底上形成第二有机树脂层,在第二有机树脂层上形成第二绝缘膜,在第二绝缘膜上形成第二元件层,贴合第一衬底与第二衬底,进行使第一有机树脂层与第一衬底之间的附着性降低的第一分离工序,利用第一粘合层粘合第一有机树脂层与第一柔性衬底,进行使第二有机树脂层与第二衬底之间的附着性降低的第二分离工序,利用第二粘合层粘合第二有机树脂层与第二柔性衬底。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供