带升降式对中装置的离心机

发明专利有效专利

申请号：
CN201010565644.7
IPC分类号：B05C11/08;B05C13/02
申请日期：
2010-11-30
申请人：
沈阳芯源微电子设备有限公司

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著录项信息

专利名称	带升降式对中装置的离心机
申请号	CN201010565644.7	申请日期	2010-11-30
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2011-08-17	公开/公告号	CN102151643A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B05C11/08 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B05 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕 B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置（喷射装置、雾化装置、喷嘴入B05B；把液体或其他流体涂布于物体上的静电喷射装置入B05B 5/08）〔2〕 B05C11/00 在B05C 1/00至B05C 9/00中没有专门列入的部件、零件及附件（B05C 19/00优先；操纵及夹持工件的方法入B05C 13/00；设备的屏蔽、喷雾装置入B05C 15/00）〔2〕 B05C11/02 向已经涂布过的表面涂敷或分布液体或其他流体的装置（B05C 7/00优先；为此目的使用的手工工具入B05C 17/10）；涂层厚度的控制〔2〕 B05C11/08 通过操纵工件，如倾斜涂敷液体或其他流体	IPC分类号	B;0;5;C;1;1;/;0;8;;;B;0;5;C;1;3;/;0;2查看分类表>
申请人	沈阳芯源微电子设备有限公司	申请人地址	辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳芯源微电子设备股份有限公司	当前权利人	沈阳芯源微电子设备股份有限公司
发明人	王冲
代理机构	沈阳科苑专利商标代理有限公司	代理人	张志伟

摘要

本发明涉及半导体领域，具体为一种带升降式对中装置的离心机，它是在半导体工业中，需要旋转加工的时候所使用的离心机。该离心机的真空吸盘外侧设置可升降的对中装置，放置晶片时，晶片置于对中装置内侧，对中装置在上位，晶片背面与真空吸盘接触，真空吸盘与磁流体密封装置相连。当工艺要求对中要求较高时，可以使用本发明的离心机，保证晶片中心和离心机的旋转中心一致，消除晶片和离心机中心不一致对胶膜均匀性产生的影响。本发明使用升降式对中，没有横向位移，可以提高对中精度，离心机部分固定在本体上不动，这样就提高了离心机的稳定性，减少了震动，同时，由于只有一个对中的上下动作，能节约机构运动的时间，提高设备产能。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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