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提高抛光液循环利用率的方法及硅片抛光方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110910821.9
IPC分类号：C09G1/02;H01L21/306
申请日期：
2021-08-10
申请人：
万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	提高抛光液循环利用率的方法及硅片抛光方法
申请号	CN202110910821.9	申请日期	2021-08-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2021-10-26	公开/公告号	CN113549400A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人	万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司	申请人地址	山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司	当前权利人	万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司
发明人	王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;卫旻嵩;李国庆;徐贺;王瑞芹
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种提高抛光液循环利用率的方法及硅片抛光方法，通过对待处理的抛光液中添加络合助剂、渗透剂、分散剂、pH值调节剂进行处理，实现抛光液多次循环利用的抛光效果。本发明可延长抛光液循环使用时间，总循环使用次数在30‑40次，且循环过程中硅片表面不易产生划伤，与抛光液未经处理直接循环使用相比，具有显著优势。

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