蚀刻液及显示器的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201710317772.1
IPC分类号：C23F1/44H01L21/84
申请日期：
2017-05-08
申请人：
群创光电股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	蚀刻液及显示器的制造方法
申请号	CN201710317772.1	申请日期	2017-05-08
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-26	公开/公告号	CN108203829A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F1/44 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F1/00 金属材料的化学法蚀刻〔2〕 C23F1/44 从一种不同成分的金属材料基体上蚀刻金属材料的组合物〔4〕	IPC分类号	C23F1/44;H01L21/84查看分类表>
申请人	群创光电股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹科学工业园区苗栗县竹南镇科学路1*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	群创光电股份有限公司	当前权利人	群创光电股份有限公司
发明人	许博云;蔡奇哲;高克毅
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	骆希聪

摘要

一种蚀刻液及显示器的制造方法。蚀刻液包括双氧水、丁二酸、丙二酸、醋酸、硫酸、异丙醇胺、5‑氨基‑1H‑四唑、四羟丙基乙二胺以及甘胺酸，上述成分均匀混合于去离子水中，其中双氧水占蚀刻液的重量百分比为5～10wt％，丁二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，丙二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，醋酸占蚀刻液的重量百分比为1～10wt％，硫酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～5wt％，异丙醇胺占蚀刻液的重量百分比为1～20wt％，5‑氨基‑1H‑四唑占蚀刻液的重量百分比为0.01～0.5wt％，四羟丙基乙二胺占蚀刻液的重量百分比为1～15wt％，甘胺酸占蚀刻液的重量百分比为1～5wt％。

一种制冷设备用毛细管去涂层装置

发明授权

蚀刻液及显示器的制造方法

在售专利 早买早用

在售专利早买早用