一种气液再分布器及上流式反应器

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201720439447.8
IPC分类号：B01J8/00;B01J8/02
申请日期：
2017-04-25
申请人：
中国科学院过程工程研究所

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著录项信息

专利名称	一种气液再分布器及上流式反应器
申请号	CN201720439447.8	申请日期	2017-04-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B01J8/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B01 一般的物理或化学的方法或装置 B01J 化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备〔2〕 B01J8/00 在有流体和固体颗粒的情况下所进行的一般化学或物理的方法；这些方法所用的装置〔2，2006.01〕	IPC分类号	B;0;1;J;8;/;0;0;;;B;0;1;J;8;/;0;2查看分类表>
申请人	中国科学院过程工程研究所	申请人地址	北京市海淀区中关村北二条1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院过程工程研究所	当前权利人	中国科学院过程工程研究所
发明人	雍玉梅;王威杰;杨超;毛在砂
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	张海英;林波

摘要

本实用新型涉及上流式反应器技术领域，公开了一种气液再分布器，包括上下叠置的第一层分布组件和第二层分布组件，所述第一层分布组件和第二层分布组件均包括多条间隔设置的档条，所述第一层分布组件的档条和所述第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔。本实用新型还公开了一种上流式反应器，包括上述的气液再分布器。本实用新型提出的气液再分布器，第一层分布组件的档条和第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔，气液能够由下而上通过该分布孔，使得气液分布均匀度高，避免壁面效应的发生，传质效率高，同时该结构简单，加工制造便利，成本低。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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