加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201710620922.6
  • IPC分类号:G03F7/20;G03F9/00
  • 申请日期:
    2017-07-27
  • 申请人:
    中国电子科技集团公司第五十五研究所
著录项信息
专利名称一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法
申请号CN201710620922.6申请日期2017-07-27
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2017-12-01公开/公告号CN107422611A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人中国电子科技集团公司第五十五研究所申请人地址
江苏省南京市中山东路524号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国电子科技集团公司第五十五研究所当前权利人中国电子科技集团公司第五十五研究所
发明人刘磊;殷履文;李永康;王溯源;王发稳;夏久龙
代理机构南京君陶专利商标代理有限公司代理人沈根水
摘要
一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法,该方法包括:(1)取一块ASML标准掩膜版;(2)取另一块ASML标准掩膜版;(3)使用专用4英寸GaAs圆片,校准ASML扫描式光刻机的焦平面各项参数;(4)选用4英寸GaAs圆片,表面涂盖光刻胶;(5)ASML扫描式光刻机在步骤(4)所述的GaAs圆片上分别曝光对准标记图形和第一层套刻匹配图形;(6)曝光后GaAs圆片显影,显影后干法刻蚀;去除光刻胶后,重新涂盖与步骤(4)相同的光刻胶;(7)ASML步进式光刻机在GaAs圆片上曝光第二层套刻匹配图形,实现两台设备的套刻匹配。优点:1)简单易行;2)套刻匹配灵活。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供