一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201910838358.4
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/50
申请日期：
2019-09-05
申请人：
西安交通大学

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专利名称	一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置
申请号	CN201910838358.4	申请日期	2019-09-05
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-12-20	公开/公告号	CN110592544A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0查看分类表>
申请人	西安交通大学	申请人地址	陕西省西安市咸宁西路28号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安交通大学	当前权利人	西安交通大学
发明人	宋忠孝;张娜;关博远;李雁淮;朱晓东;孙军
代理机构	北京化育知识产权代理有限公司	代理人	涂琪顺

摘要

本发明公开了一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，包括壳体，该壳体具有顶部开口的圆柱形腔体；腔体内的底部设置有与壳体外的传动装置连接的转动装置，转动装置上设置有工件架；腔体内壁上沿其轴向安装有若干对靶座底盘，每个靶座底盘上均分布有多个靶座，靶座上用于安装金属靶材，每对靶座底盘旁边均设置有用于更换金属靶材的腔门，靶座上设置有遮挡板；腔体顶部设有气体进出装置和高压空气出气口；工作时，金属靶材通过座电极连接外电路负极，工件架通过座电极连接外电路正极。本发明结构简单，操作方便，沉积薄膜均匀，靶材在磁控溅射时，由于受到磁力线的约束，保证镀层材料原子沉积率，节省了原料，提高了生产效率和成品质量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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