制作薄膜磁头的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200810173196.9
IPC分类号：G11B5/31
申请日期：
2008-11-06
申请人：
富士通株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	制作薄膜磁头的方法
申请号	CN200810173196.9	申请日期	2008-11-06
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2009-09-23	公开/公告号	CN101540174
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G11B5/31 ? IPC结构图谱： G 物理 G9 G部其他 G11 信息存储 G11B 基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储（以不需要通过换能器重现记录值的方式记录测量值的入G01D 9/00；利用有机械标记的带子，例如，穿孔纸带或利用单元记录卡，如穿孔卡片或具有磁性标记的卡片的记录或重现设备入G06K；将数据从记录载体的一种类型转移到另一种类型上的入G06K 1/18；将重放装置的输出耦合到无线电接收机上去的电路入H04B 1/20；唱机拾音器之类的声音机电传感器或为此所用的电路入H04R） G11B5/00 借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体（G11B 11/00优先）〔4〕 G11B5/127 磁头的结构或制造，例如电感应的〔4〕 G11B5/31 应用薄膜的（G11B 5/33优先）〔4〕	IPC分类号	G;1;1;B;5;/;3;1查看分类表>
申请人	富士通株式会社	申请人地址	日本神奈川县川崎市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	富士通株式会社	当前权利人	富士通株式会社
发明人	伊藤隆司;大松英晃
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	李辉

摘要

本发明涉及制作薄膜磁头的方法，该方法包括以下步骤：通过在衬底上层叠薄膜来形成记录头部件；在记录头部件中形成气浮面；在记录头部件的基体上形成线圈层；在线圈层的线圈线上并且在由线圈线限定的除线圈层的中央部分之外的空间中形成第一绝缘层；在第一绝缘层上形成上部旁轭；在上部旁轭和第一绝缘层上形成第二绝缘层；对上部旁轭的上表面和第二绝缘层的上表面进行平坦化，以使所述两个表面成为连续的平坦表面；以及通过溅射在所述平坦表面上形成低热膨胀材料层。

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