一种用于半导体厂房的洁净室

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201420120184.0
IPC分类号：E04H5/02;F24F7/10
申请日期：
2014-03-18
申请人：
亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种用于半导体厂房的洁净室
申请号	CN201420120184.0	申请日期	2014-03-18
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	E04H5/02 ? IPC结构图谱： E 固定建筑物 E0 建筑 E04 建筑物 E04H 专门用途的建筑物或类似的构筑物；游泳或喷水浴槽或池；桅杆；围栏；一般帐篷或天篷（基础入E02D）〔4〕 E04H5/00 工农业用的建筑或建筑群（一般建筑结构入E04B 1/00） E04H5/02 工业建筑物或建筑群，例如，发电站，工厂（构成冷冻厂一部分的建筑物入E04H 5/10；停车场的建筑结构入E04H 6/00）	IPC分类号	E;0;4;H;5;/;0;2;;;F;2;4;F;7;/;1;0查看分类表>
申请人	亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司	申请人地址	江苏省苏州市工业园区方达街33号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司	当前权利人	亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司
发明人	杨政谕
代理机构	苏州翔远专利代理事务所（普通合伙）	代理人	陆金星

摘要

本实用新型公开了一种用于半导体厂房的洁净室，包括一大型洁净空间及回风通道；大型洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间，所述循环空间内设有生产辅助设备；所述循环空间内设置生产辅助设备的区域的四周均设有隔板，使其构成独立的密闭空间；在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有至少1个回风柱，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；所述回风柱内设有风机。本实用新型解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题；与此同时，在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多个回风柱，通过回风柱实现气流循环，同时还充分利用了其内的洁净空气，而且降低了消耗。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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