电布线结构、电光装置用基板、电光装置及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200410037591.6
IPC分类号：G02F1/133
申请日期：
2004-04-28
申请人：
精工爱普生株式会社

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著录项信息

专利名称	电布线结构、电光装置用基板、电光装置及其制造方法
申请号	CN200410037591.6	申请日期	2004-04-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-11-03	公开/公告号	CN1542511
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/133 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3查看分类表>
申请人	精工爱普生株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	精工爱普生株式会社	当前权利人	精工爱普生株式会社
发明人	田口聪志;大池一夫;上原秀树;今井克浩;田中千浩
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	陈海红;段承恩

摘要

本发明提供一种在形成包含耐腐蚀性金属布线和非耐腐蚀性金属布线在内的非线性元件等时，可同时形成的、且可获得良好的低电阻性及耐腐蚀性的电布线结构、电布线结构的制造方法、具有上述电布线结构的电光装置用基板、及电光装置、以及电光装置的制造方法。因此，在耐腐蚀性金属布线的表面上依次形成该耐腐蚀性金属的氧化层及非耐腐蚀性金属布线，同时耐腐蚀性金属布线具有除去该耐腐蚀性金属的氧化层的露出部，通过该露出部，通孔及跨非耐腐蚀性金属布线、露出部之上地形成的导电性无机氧化膜等电连接辅助部件可电连接耐腐蚀性金属布线与非耐腐蚀性金属布线。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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