包括气体分配系统的喷溅装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201680008421.6
IPC分类号：C23C14/00;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34
申请日期：
2016-02-02
申请人：
卡迪奈尔镀膜玻璃公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	包括气体分配系统的喷溅装置
申请号	CN201680008421.6	申请日期	2016-02-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-09-26	公开/公告号	CN107208249A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;J;3;7;/;3;4查看分类表>
申请人	卡迪奈尔镀膜玻璃公司	申请人地址	美国明尼苏达变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	卡迪奈尔镀膜玻璃公司	当前权利人	卡迪奈尔镀膜玻璃公司
发明人	K·哈蒂格
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	李隆涛

摘要

一种磁控喷溅装置(10)，其包括真空室(12)、靶(16)和气体分配系统(18)，受控的环境可以在所述真空室内建立，所述靶包括一种或多种可喷溅材料，其中靶包括跑道形喷溅区域(38)，所述跑道形喷溅区域沿纵向轴线纵向延伸并且包括被夹在第一转向区域(40)与第二转向区域(44)之间的笔直区域(42)，所述气体分配系统将第一气体混合物供给到第一转向区域和/或第二转向区域并且将第二气体混合物供给到笔直区域，其中第一气体混合物相对于第二气体混合物降低喷溅速率。在某些情况下，第一气体混合物包括具有第一原子量的惰性气体，并且第二气体混合物包括具有第二原子量的惰性气体，其中第二原子量比第一原子量重。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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