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压合于晶圆上的干膜的清洗流程

发明专利有效专利

申请号：
CN200610002541.3
IPC分类号：G03F7/00;G03F7/26;H01L21/56
申请日期：
2006-01-06
申请人：
日月光半导体制造股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	压合于晶圆上的干膜的清洗流程
申请号	CN200610002541.3	申请日期	2006-01-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-07-11	公开/公告号	CN1996143
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;6;;;H;0;1;L;2;1;/;5;6查看分类表>
申请人	日月光半导体制造股份有限公司	申请人地址	中国台湾高雄市楠梓加工区经三路26号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日月光半导体制造股份有限公司	当前权利人	日月光半导体制造股份有限公司
发明人	曾琮彦;黄敏龙;蔡骐隆;杨敏智
代理机构	上海开祺知识产权代理有限公司	代理人	费开逵

摘要

本发明提供一种压合于晶圆上的干膜的清洗流程。首先，提供一干膜压合于一例如晶圆的基板上，该干膜包括一贴附于该基板的光阻层以及一显露的透光载膜。在曝光显影之前，在暗室内清洗该干膜的透光载膜，其清洗方法可包括化学喷洗与去离子水清洗的步骤，藉以清除透光载膜上的残留污染物，同时可去除干膜毛边，以提升后续曝光显影的制程良率。

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