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连接结构、电光装置及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710301184.5
  • IPC分类号:H01L23/522;H01L27/12;H01L21/768;H01L21/84;G02F1/1362
  • 申请日期:
    2007-12-26
  • 申请人:
    精工爱普生株式会社
著录项信息
专利名称连接结构、电光装置及其制造方法
申请号CN200710301184.5申请日期2007-12-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-07-02公开/公告号CN101211891
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/522IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;2;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2查看分类表>
申请人精工爱普生株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人精工爱普生株式会社当前权利人精工爱普生株式会社
发明人森胁稔
代理机构北京市中咨律师事务所代理人陈海红;段承恩
摘要
本发明涉及连接结构、电光装置及其制造方法,例如,对液晶装置中的开口率下降进行抑制。中继层(93),从第2层间绝缘层(42)的上表面(42a)延伸于第2层间绝缘层(42)的端面(42b)及下部电容电极(71)的端面(71b)。中继层(93),通过接触孔(85)而电连接于像素电极(9a)。即,下部电容电极(71),与中继层(93)一起对高浓度漏区域(1e)及像素电极(9a)间的电连接进行中继。从而,若依照于液晶装置(1),则可以使形成于非开口区域的下部电容电极(71)、与中继层(93)的连接区域变小,或完全消失。

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