二苯并吡咯甲川硼螯合物、近红外光吸收材料、有机薄膜及有机电子装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202080007651.7
IPC分类号：C07F5/02;H01L31/10;H01L51/50
申请日期：
2020-01-31
申请人：
日本化药株式会社

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著录项信息

专利名称	二苯并吡咯甲川硼螯合物、近红外光吸收材料、有机薄膜及有机电子装置
申请号	CN202080007651.7	申请日期	2020-01-31
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-20	公开/公告号	CN113286799A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F5/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F5/00 含周期表第3或13族元素的化合物 C07F5/02 硼化合物	IPC分类号	C;0;7;F;5;/;0;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0查看分类表>
申请人	日本化药株式会社	申请人地址	日本东京都千代田区丸之内二丁目1番1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日本化药株式会社	当前权利人	日本化药株式会社
发明人	井内俊文;桥本雄太;贞光雄一;青竹达也
代理机构	北京戈程知识产权代理有限公司	代理人	程伟

摘要

本发明提供一种在近红外光区域具有广泛吸收且在近红外光区域的光电转换效率优良的有机化合物、含有该化合物的近红外光吸收材料、包含该近红外光吸收材料的有机薄膜及包含该有机薄膜的有机电子装置以及有机光电转换元件。本说明书中，提供下式(1)所示的化合物：(式(1)中，R1至R12各自独立地表示氢原子、脂肪族烃基、烷氧基、烷硫基、芳香族基、杂环基、卤素原子、羟基、巯基、硝基、取代胺基、非取代胺基、氰基、磺基、或酰基。其中，R1至R4的至少一者表示氢原子以外的基，且R5至R8的至少一者表示氢原子以外的基)。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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