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一种精密抛光晶片用有机物清洗液

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510086960.5
  • IPC分类号:C11D7/26;H01L21/304
  • 申请日期:
    2005-11-23
  • 申请人:
    中国科学院半导体研究所
著录项信息
专利名称一种精密抛光晶片用有机物清洗液
申请号CN200510086960.5申请日期2005-11-23
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2007-05-30公开/公告号CN1970714
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C11D7/26IPC分类号C;1;1;D;7;/;2;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人中国科学院半导体研究所申请人地址
北京市海淀区清华东路甲35号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院半导体研究所当前权利人中国科学院半导体研究所
发明人朱蓉辉;惠峰;卜俊鹏;郑红军
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人段成云
摘要
本发明涉及清洗液技术领域,特别是一种适用于精密抛光晶片的有机物去除清洗液。该有机物清洗液由醚和醇两种有机溶剂组成。醚在混合液中所占重量含量为5%到95%,醇所占重量含量为95%到5%。其中醚由下列中选出:甲醚、乙醚、乙二醚、丙醚、丁醚、异丙醚、乙丙醚、苯甲醚、石油醚。其中醚为石油醚。其中醇由下列选出:甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、异丙醇、丁醇、2-丁醇、正丁醇、丙醇、正丙醇、正戊醇、异戊醇。其中醇含有三个以下的羟基。其中醇含有一个羟基。其中醇为异丙醇。

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