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用于形成有机叠层膜的涂液、场效应晶体管的制造方法、及场效应晶体管

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580014055.7
  • IPC分类号:H01L21/336;H01L21/368
  • 申请日期:
    2005-08-18
  • 申请人:
    松下电器产业株式会社
著录项信息
专利名称用于形成有机叠层膜的涂液、场效应晶体管的制造方法、及场效应晶体管
申请号CN200580014055.7申请日期2005-08-18
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-04-18公开/公告号CN1950933
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/336IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;6;8查看分类表>
申请人松下电器产业株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人松下电器产业株式会社当前权利人松下电器产业株式会社
发明人中川彻
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人李贵亮
摘要
本发明的场效应晶体管的制造方法包括:涂敷含有溶剂(13)和溶解于溶剂(13)的第一及第二有机分子(11)及(12)的涂液(20)的工序;和通过除去涂敷后的涂液(20)中的溶剂(13),形成以第一有机分子(11)为主成分的第一层、和与第一层邻接且以第二有机分子(12)为主成分的第二层的工序。第一有机分子(11)是半导体材料或半导体材料的前体,第二有机分子(12)是绝缘体材料或绝缘体材料的前体。第一有机分子(11)和第二有机分子(12)相互没有相容性。

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