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光刻设备和器件制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201180009096.2
IPC分类号：G03F7/20;G03F9/00
申请日期：
2011-01-14
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻设备和器件制造方法
申请号	CN201180009096.2	申请日期	2011-01-14
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-10-24	公开/公告号	CN102754035A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	A·V·帕迪瑞;B·门奇奇科夫
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王静

摘要

一种控制光刻设备的扫描功能的方法。使用第一对准策略。监控晶片被曝光以确定与扫描功能相关的基准线控制参数。基准线控制参数周期性地从监控晶片重新获得。从基准线控制参数确定参数漂移。基于所述确定结果采取校正动作。使用不同于第一对准策略的第二对准策略曝光产品晶片。修正校正动作，从而在第二对准策略已经被用于曝光监控晶片的情况下、则使得实质上更接近本来应当做出的校正。

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