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基板处理装置和基板处理装置的控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510962055.5
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2012-03-30
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置和基板处理装置的控制方法
申请号CN201510962055.5申请日期2012-03-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-24公开/公告号CN105355532A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人桧森慎司;山田纪和;大瀬刚
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳;邸万杰
摘要
本发明提供一种基板处理装置以及该基板处理装置的控制方法。上述基板处理装置,包括:内部被减压的处理室;配置在该处理室内、载置基板的载置台;施加等离子体生成用高频电压的第一高频电源;对所述载置台施加偏置电压发生用高频电压、在所述载置台产生偏置电压的第二高频电源;对所述载置台施加矩形波状的直流电压、在所述载置台产生偏置电压的直流电压施加单元;和开关机构,该开关机构配置在所述载置台与所述第二高频电源以及所述直流电压施加单元之间,能够控制所述载置台与所述第二高频电源的连接以及所述载置台与所述直流电压施加单元的连接。

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