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相变随机存取存储器及制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910198580.9
  • IPC分类号:H01L27/24;H01L45/00;H01L21/82;G11C11/56
  • 申请日期:
    2009-11-10
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称相变随机存取存储器及制造方法
申请号CN200910198580.9申请日期2009-11-10
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-05-11公开/公告号CN102054853A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/24IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;2;4;;;H;0;1;L;4;5;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;;;G;1;1;C;1;1;/;5;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人三重野文健
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李丽
摘要
一种相变随机存取存储器及制造方法。所述相变随机存取存储器的制造方法包括:形成开关器件及连接所述开关器件的数据存储器,所述数据存储器包括底部电极、底部电极上的相变层、相变层上的顶部电极;以及在所述底部电极、相变层、顶部电极两侧形成侧墙,所述相变层由H2Se、GeH4、SbH3的一种或其组合形成。采用H2Se、GeH4、SbH3的一种或其组合,替代含Si/N/C的硫系化合物作为相变材料,使得形成相变层时的材料气体和含Si/N/C的掺杂气体互不相关,从而降低了掺杂过程的离子浓度控制的难度。

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