光学邻近修正方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201910746475.8
IPC分类号：G03F1/36
申请日期：
2019-08-13
申请人：
德淮半导体有限公司

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著录项信息

专利名称	光学邻近修正方法
申请号	CN201910746475.8	申请日期	2019-08-13
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-11-08	公开/公告号	CN110426915A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/36 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/36 具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;6查看分类表>
申请人	德淮半导体有限公司	申请人地址	江苏省淮安市淮阴区长江东路599号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	德淮半导体有限公司	当前权利人	德淮半导体有限公司
发明人	黄增智;夏睿;黄双龙;倪凌云
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	徐文欣

摘要

一种光学邻近修正方法，包括：提供目标光刻图形，所述目标光刻图形包括相邻的第一子目标光刻图形和第二子目标光刻图形；对所述目标光刻图形进行第一光学邻近修正，得到与所述目标光刻图形对应的第一修正图形，以及与所述第一修正图形对应的第一模拟光刻图形；当所述第一修正图形的修正最小间距等于最小预设距离，且所述第一模拟光刻图形的第一边缘放置误差和第二边缘放置误差中的一者或两者大于或等于预设边缘放置误差时，对所述第一修正图形进行第二修正。以所述光学邻近修正方法得到的修正图形形成的光刻图形效果好。

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