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耐高压的结型场效应管

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110021192.0
  • IPC分类号:H01L29/80;H01L29/40
  • 申请日期:
    2011-01-19
  • 申请人:
    上海华虹NEC电子有限公司
著录项信息
专利名称耐高压的结型场效应管
申请号CN201110021192.0申请日期2011-01-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-07-25公开/公告号CN102610656A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/80
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;8;0;;;H;0;1;L;2;9;/;4;0查看分类表>
申请人上海华虹NEC电子有限公司申请人地址
变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人张帅;董科
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司代理人丁纪铁
摘要
本发明公开了一种耐高压的结型场效应管,在现有结型场效应管的基础上做了改进,具体是在栅极靠近漏极的一端、以及漏极处增加了多晶硅场极板结构,这可以改善阱二和阱三体内的电荷分布和矢量电场分布,从而提高结型场效应管的关态击穿电压,可以制作出耐高压的结型场效应管。

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