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一种直写曝光设备的正交性实时监测及校正方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710052011.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-01-20
  • 申请人:
    苏州微影激光技术有限公司
著录项信息
专利名称一种直写曝光设备的正交性实时监测及校正方法
申请号CN201710052011.8申请日期2017-01-20
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2017-05-24公开/公告号CN106707698A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人苏州微影激光技术有限公司申请人地址
江苏省苏州市虎丘区高新区火炬路85号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州微影激光技术有限公司当前权利人苏州微影激光技术有限公司
发明人蔡志国;吴斌;张显峰;朱俊伟;罗宜清;张兴旺;魏亚飞
代理机构深圳市千纳专利代理有限公司代理人黄良宝
摘要
本发明提供了一种直写曝光设备的正交性实时监测及校正方法,涉及曝光机领域,在直写曝光设备的吸盘上加装四个标准标记点,在曝光设备的运行工作时间超过预设时间后,通过曝光设备上的高精度相机CCD,分别抓取其中三个标记点的坐标,通过坐标点计算出直写曝光设备X方向与Y方向的正交性误差,根据正交性误差自动计算出直写曝光设备在X方向与Y方向的两个补偿系数,并自动实时监测以及校正曝光设备的正交性。与现有技术相比,该正交性实时监测及校正方法,通过直接在直写曝光设备吸盘上加装标准标记点,不需要依赖于图像精度很高的底片,自动实时监测以及校正直写曝光设备的正交性,大大缩短设备维护时间,减少维护成本,并提高效率。

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