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曝光设备和装置制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910005724.4
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2004-09-03
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称曝光设备和装置制造方法
申请号CN200910005724.4申请日期2004-09-03
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-07-08公开/公告号CN101477312
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人长坂博之;大和壮一
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人赵科
摘要
一种曝光装置,其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统,以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71,其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b,其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力,并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。

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