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一种修正掩膜布局图的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN02105906.3
IPC分类号：G03F1/16;G03F7/00;G06F17/00
申请日期：
2002-04-09
申请人：
联华电子股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种修正掩膜布局图的方法
申请号	CN02105906.3	申请日期	2002-04-09
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2003-10-22	公开/公告号	CN1450407
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/16 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86）	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;1;6;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;6;F;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人	联华电子股份有限公司	申请人地址	台湾省新竹科学工业园区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	联华电子股份有限公司	当前权利人	联华电子股份有限公司
发明人	李启明;范政文;黄俊仁;刘智强
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	王志森;黄小临

摘要

本发明提供一种修正掩膜布局图的方法，该掩膜布局图上包含有多个具有不同图案密度的元件图案。本发明的方法先执行一检测程序，并依据掩膜布局图上的各元件图案之间的图案密度来将各元件图案分为多类元件图案，最后再分别对各类元件图案进行修正。

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