一种包含不同透光性的新型光学掩膜版

发明专利有效专利

申请号：
CN201811599809.5
IPC分类号：G03F1/88
申请日期：
2018-12-26
申请人：
聚灿光电科技（宿迁）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种包含不同透光性的新型光学掩膜版
申请号	CN201811599809.5	申请日期	2018-12-26
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-07-03	公开/公告号	CN111367142A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/88 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/88 通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;8;8查看分类表>
申请人	聚灿光电科技（宿迁）有限公司	申请人地址	江苏省宿迁市宿迁经济技术开发区发展大道西侧（商务中心2005室）变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	聚灿光电科技（宿迁）有限公司	当前权利人	聚灿光电科技（宿迁）有限公司
发明人	张振;刘佳擎
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其制备方法包括以下步骤：a、选取基板；b、在玻璃基板表面镀铬金属膜层；c、铬膜上涂覆光刻胶；d、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶；e、浸泡刻蚀液；f、去除剩余光刻胶；g、在玻璃基板上镀上部分透光薄膜；h、在部分透光薄膜上均匀涂覆光刻胶；i、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶；j、浸泡刻蚀液或干法蚀刻；k、去除剩余光刻胶，形成新型光学掩膜版；本申请提供了一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，可针对实际需要，一次光刻做出不同高度台阶的光刻胶图形，减少光刻步骤，满足光刻掩膜要求，可在实际的工业生产中被进一步推广。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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