衬底、曝露衬底的方法和机器可读媒体

发明专利无效专利

申请号：
CN200610162747.2
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027;G03F7/039;G03F7/26
申请日期：
2006-09-25
申请人：
ASML荷兰有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	衬底、曝露衬底的方法和机器可读媒体
申请号	CN200610162747.2	申请日期	2006-09-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-04-25	公开/公告号	CN1952790
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;2;6查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	A·C·-H·陈
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

这里给出了一种用于在光刻系统中提高图像分辨率的双曝露方法。本发明包括：把要印刷在衬底上的所希望的图案分解成至少两个能够被光刻系统光学地分辨的组成子图案，利用在目标层之上的第一正性抗蚀剂层和相对薄的第二正性抗蚀剂层涂覆衬底，该目标层要用所希望的密集线图案构图。在第一构图曝露期间和在显影后、在第二构图曝露期间，第二抗蚀剂材料吸收曝露辐射，以防止在第二抗蚀剂材料层的已曝露部分下面的、该第一抗蚀剂材料的至少一部分曝露于高于与第一抗蚀剂层相关的清除能量曝露剂量的一小部分的曝露剂量。

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