加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

光刻设备和器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710104018.6
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2007-05-14
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻设备和器件制造方法
申请号CN200710104018.6申请日期2007-05-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-12-05公开/公告号CN101082779
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰费尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人R·T·P·康彭;O·沃兹尼;M·侯本;M·埃尔鲍柴比;F·J·M·博克霍尔特;R·瓦克
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
公开了一种光刻设备,它设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上,该设备包括衬底台,它构建成固定衬底;第一夹紧系统,配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上;以及第二夹紧系统,配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供