光学层积体、偏振片及其制造方法、图像显示装置及其制造方法和可见性改善方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201811135885.0
IPC分类号：G02B1/11;B32B7/023;G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335;B32B27/36
申请日期：
2013-05-21
申请人：
大日本印刷株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光学层积体、偏振片及其制造方法、图像显示装置及其制造方法和可见性改善方法
申请号	CN201811135885.0	申请日期	2013-05-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-01-01	公开/公告号	CN109116450A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层 G02B1/10 对光学元件表面涂覆或对其进行表面处理后所产生的光学涂层（G02B1/08优先）〔1，2015.01〕 G02B1/11 抗反射涂层〔6，2015.01〕	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;1;1;;;B;3;2;B;7;/;0;2;3;;;G;0;2;B;1;/;1;0;;;G;0;2;B;5;/;3;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;;;B;3;2;B;2;7;/;3;6查看分类表>
申请人	大日本印刷株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大日本印刷株式会社	当前权利人	大日本印刷株式会社
发明人	黑田刚志;本田诚
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	庞东成;张志楠

摘要

本发明涉及光学层积体、偏振片及其制造方法、图像显示装置及其制造方法和可见性改善方法。本发明提供图像显示装置的可见性改善方法，根据该方法，即使是在使用具备聚酯膜之类的在面内具有双折射率的透光性基材的光学层积体的情况下，也能够得到防反射性能与明处对比度优异的图像显示装置。本发明提供的图像显示装置的可见性改善方法为具备下述光学层积体的图像显示装置的可见性改善方法，该光学层积体在面内具有双折射率的透光性基材的一面具有光学功能层；该方法的特征在于，按照上述透光性基材的折射率大的方向即慢轴与上述图像显示装置的显示画面的上下方向平行的方式配设上述光学层积体。

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