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抗辐射结构

发明专利无效专利

申请号：
CN200610159883.6
IPC分类号：G02B5/18
申请日期：
2006-11-02
申请人：
财团法人工业技术研究院

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	抗辐射结构
申请号	CN200610159883.6	申请日期	2006-11-02
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-05-07	公开/公告号	CN101173992
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/18 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/18 衍射光栅	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人	财团法人工业技术研究院	申请人地址	中国台湾新竹县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	财团法人工业技术研究院	当前权利人	财团法人工业技术研究院
发明人	林燕秀;苏宗粲;张明智;张佑嘉
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	魏晓刚;李晓舒

摘要

本发明提供一种抗辐射结构，包括一基材；一反射层，邻接该基材之上；以及一周期性光栅，邻接该反射层。本发明亦提供另一种抗辐射结构，包括一基材，及一周期性光栅邻接该透明基材。上述的抗辐射结构可反射或绕射特定波段的入射辐射。

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