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芯片切割方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510039555.1
  • IPC分类号:H01L21/78
  • 申请日期:
    2015-01-26
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称芯片切割方法
申请号CN201510039555.1申请日期2015-01-26
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2016-08-24公开/公告号CN105895582A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/78IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;8查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人呼翔;彭坤;陈文甫;赵连国;王海莲;王峰;李磊;吴亮
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司代理人吴贵明;张永明
摘要
本申请公开了一种芯片切割方法,其包括以下步骤:在待切割晶圆上选定欲切割区;去除欲切割区表面上的钝化层以形成划片槽;以及沿划片槽切割待切割晶圆。该芯片切割方法中,在对待切割晶圆进行切割的步骤之前,先去除了欲切割区上的钝化层。钝化层往往具有较高的应力,且厚度较厚。在切割之前去除这层高应力层,能够降低后期的切割难度,使形成的划片槽更容易被切开。同时,去除这层高应力层,能够改善欲切割区中各层的应力不均匀性问题,使得后期切割的过程中,欲切割区的受力更加均衡,从而能够促使划片槽中产生的微裂纹更加均匀,有利于提高切割痕迹的平整性。以上各方面的因素均能够改善芯片的切割效果,提高芯片的良品率。

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