无惰性气体保护合成三元前驱体的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201711361151.X
IPC分类号：H01M4/50
申请日期：
2017-12-18
申请人：
佛山市德方纳米科技有限公司

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专利名称	无惰性气体保护合成三元前驱体的方法
申请号	CN201711361151.X	申请日期	2017-12-18
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2018-06-15	公开/公告号	CN108172818A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01M4/50 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01M 用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组〔2〕（一般电化学的方法或装置入C25；用于转变光或热为电能的半导体或其他固态器件入H01L，例如H01L 31/00，H01L 35/00，H01L 37/00）〔2〕 H01M4/00 电极〔2〕 H01M4/02 由活性材料组成或包括活性材料的电极〔2〕 H01M4/36 作为活性物质、活性体、活性液体的材料的选择〔2〕 H01M4/48 无机氧化物或氢氧化物的〔2，2010.01〕 H01M4/50 锰的〔2，2010.01〕	IPC分类号	H;0;1;M;4;/;5;0查看分类表>
申请人	佛山市德方纳米科技有限公司	申请人地址	广东省佛山市高明区明城镇桥头路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	佛山市德方纳米科技有限公司	当前权利人	佛山市德方纳米科技有限公司
发明人	李正松;孔令涌;严泽华;李华勇;周钰
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	胡枫

摘要

本发明公开了一种无惰性气体保护合成三元前驱体的方法，包括(1)称取镍、钴、锰硫酸盐和水，按照质量比为1:2‑8的比例混合，得到溶液A；(2)称取浓度为10‑35％氢氧化钠溶液和去离子水，按照质量比为1‑3:1‑3的比例混合，得到溶液B；(3)称取浓度为15‑30％的浓氨水和去离子水，按照质量比为1‑3:2‑4的比例混合，得到溶液C；(4)将溶液A、溶液B、溶液C按照2‑4:3‑5:0.1‑2的比例同时加入到封闭式反应釜中搅拌，反应过程中无惰性气体保护，反应得到三元前驱体。采用本发明，反应过程无需惰性气体保护，简化工艺，反应过程容易控制，操作简单，成本低。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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