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用于对衬底侧面进行布线的光刻方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03823110.7
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2003-09-26
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称用于对衬底侧面进行布线的光刻方法
申请号CN03823110.7申请日期2003-09-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-10-19公开/公告号CN1685286
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人A·J·M·内里斯森
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人原绍辉
摘要
在用于对衬底的端侧面或内侧面进行布线的光刻接近式方法中,利用掩模(70)来对限定了布线图案的条(76)进行所需的曝光,该掩模(70)包括衍射结构(74)以便将曝光射线(b)反射至侧面。使用垂直入射于掩模上的曝光光束以便提高贴近间隙宽度变动的公差。这种方法容许制造准确、精细的布线。

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