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一种化学机械抛光清洗液及其使用方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110554794.6
IPC分类号：C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00
申请日期：
2021-05-21
申请人：
万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种化学机械抛光清洗液及其使用方法
申请号	CN202110554794.6	申请日期	2021-05-21
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-10-01	公开/公告号	CN113462491A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C11D7/26 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C11 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 C11D 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 C11D7/00 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 C11D7/22 有机化合物 C11D7/26 含氧的	IPC分类号	C;1;1;D;7;/;2;6;;;C;1;1;D;7;/;3;2;;;C;1;1;D;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人	万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司	申请人地址	山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司	当前权利人	万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司
发明人	卞鹏程;卫旻嵩;崔晓坤;王庆伟
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及其使用方法，该清洗液包含两种C原子数不同的有机碱、分散助剂、余量为水。本发明的化学机械抛光清洗液是一种用于硅晶圆片抛光垫的清洗液，通过对化学机械抛光后抛光垫的清洗，能够改善抛光后硅晶圆片的表面质量，延长抛光垫的使用时间，降低成本。

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