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部件数目减少的流体喷射设备以及用于制造流体喷射设备的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010289274.2
  • IPC分类号:B41J2/16B41J2/14B41J2/01
  • 申请日期:
    2020-04-14
  • 申请人:
    意法半导体股份有限公司
著录项信息
专利名称部件数目减少的流体喷射设备以及用于制造流体喷射设备的方法
申请号CN202010289274.2申请日期2020-04-14
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-27公开/公告号CN111823717A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J2/16IPC分类号B41J2/16;B41J2/14;B41J2/01查看分类表>
申请人意法半导体股份有限公司申请人地址
意大利阿格拉布*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人意法半导体股份有限公司当前权利人意法半导体股份有限公司
发明人D·朱斯蒂;C·L·佩瑞里尼;L·滕托里
代理机构北京市金杜律师事务所代理人董莘
摘要
本公开的实施例涉及部件数目减少的流体喷射设备以及用于制造流体喷射设备的方法。各种实施例提供了一种用于流体的喷射设备。喷射设备包括:第一半导体晶片,该第一半导体晶片在其第一侧上容纳压电致动器和在压电致动器旁边的用于流体的出口通道;第二半导体晶片,该第二半导体晶片在其第一侧上具有凹口,并且与第一侧相对的其第二侧上具有用于将所述流体流体地耦合至凹口的至少一个入口通道;以及干膜,其被耦合到与第一晶片的第一侧相对的第二侧。第一晶片和第二晶片被耦合在一起,以使得压电致动器和出口通道被设置成直接面对并被完全容纳在凹口中,该凹口形成用于流体的储液器。干膜具有喷射喷嘴。

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