使用过氧化氢作为主掺杂剂的共伴气体或吹扫气体进行原位清洁以尽量减少离子源中的积碳

发明专利有效专利

申请号：
CN201780057110.3
IPC分类号：H01J37/08;H01J37/317
申请日期：
2017-09-27
申请人：
艾克塞利斯科技公司

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专利名称	使用过氧化氢作为主掺杂剂的共伴气体或吹扫气体进行原位清洁以尽量减少离子源中的积碳
申请号	CN201780057110.3	申请日期	2017-09-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-05-03	公开/公告号	CN109716479A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/08 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/02 零部件 H01J37/04 电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置 H01J37/08 离子源；离子枪	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;0;8;;;H;0;1;J;3;7;/;3;1;7查看分类表>
申请人	艾克塞利斯科技公司	申请人地址	美国马萨诸塞州比佛利市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	艾克塞利斯科技公司	当前权利人	艾克塞利斯科技公司
发明人	尼尔·科尔文;哲-简·谢
代理机构	北京中原华和知识产权代理有限责任公司	代理人	刘新宇;寿宁

摘要

本发明提供一种用于改善离子注入性能的离子源组件和方法。该离子源组件具有离子源腔室，并且源气体供应源向离子源腔室提供分子碳源气体。激发源激发分子碳源气体，形成碳离子和原子碳。引出电极从离子源腔室中引出碳离子，形成离子束。过氧化氢共伴气体供应源向离子源腔室提供过氧化氢共伴气体。过氧化氢共伴气体分解并与原子碳反应，在离子源腔室内形成碳氢化合物。进一步引入惰性气体并使其离子化，以抵消因过氧化氢分解所致的阴极氧化。真空泵除去碳氢化合物，其中减少原子碳的沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。

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