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具有晶体管单元和增强单元的半导体器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510975028.1
  • IPC分类号:H01L27/06;H01L29/423;H01L29/739
  • 申请日期:
    2015-12-23
  • 申请人:
    英飞凌科技股份有限公司
著录项信息
专利名称具有晶体管单元和增强单元的半导体器件
申请号CN201510975028.1申请日期2015-12-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-06-29公开/公告号CN105720054A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/06IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;9;/;7;3;9查看分类表>
申请人英飞凌科技股份有限公司申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技股份有限公司当前权利人英飞凌科技股份有限公司
发明人R.巴布尔斯克;M.戴内泽;C.耶格;J.G.拉文
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人张凌苗;王传道
摘要
提供了具有晶体管单元和增强单元的半导体器件。一种半导体器件包括晶体管单元(TC)和增强单元(EC)。每个晶体管单元(TC)包括与漂移结构(120)形成第一pn结(pn1)的本体区(115)。晶体管单元(TC)可以在第一控制信号(C1)超过第一阈值(Vthx)时在本体区(115)中形成反型沟道(115x)。反型沟道(115x)形成漂移结构(120)与第一负载电极(310)之间的连接的一部分。延迟单元(400)生成第二控制信号(C2),第二控制信号(C2)的后沿相对于第一控制信号(C1)的后沿延迟。增强单元(EC)在第二控制信号(C2)下降到低于比第一阈值(Vthx)低的第二阈值(Vthy)时在漂移结构(120)中形成反型层(120y)。反型层(120y)作为少数电荷载流子发射极起效。

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