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用于反应腔室的整流件及反应腔室

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201822051574.8
IPC分类号：H01L21/67
申请日期：
2018-12-07
申请人：
北京北方华创微电子装备有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于反应腔室的整流件及反应腔室
申请号	CN201822051574.8	申请日期	2018-12-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人	北京北方华创微电子装备有限公司	申请人地址	北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京北方华创微电子装备有限公司	当前权利人	北京北方华创微电子装备有限公司
发明人	林源为;崔咏琴
代理机构	北京思创毕升专利事务所	代理人	孙向民;廉莉莉

摘要

本实用新型涉及一种用于反应腔室的整流件及反应腔室，反应腔室包括用于安装晶圆的基座，整流件用于设置在基座上方，整流件包括整流环，整流环为平面圆环形。该整流件能够优化等离子体在反应腔室内的运动，调节晶圆上方气体密度分布，进而提升深硅刻蚀的均匀性。

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