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氯化铵蚀刻液的充氧装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610041000.1
  • IPC分类号:C23F1/08;C23F1/14;H05K3/06
  • 申请日期:
    2006-08-18
  • 申请人:
    丁四宜;王水平
著录项信息
专利名称氯化铵蚀刻液的充氧装置
申请号CN200610041000.1申请日期2006-08-18
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-02-14公开/公告号CN1912186
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23F1/08IPC分类号C;2;3;F;1;/;0;8;;;C;2;3;F;1;/;1;4;;;H;0;5;K;3;/;0;6查看分类表>
申请人丁四宜;王水平申请人地址
江苏省常州市新北区西夏墅镇浦河村委丁家村 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人丁四宜,王水平当前权利人丁四宜,王水平
发明人王水平;丁四宜
代理机构常州市维益专利事务所代理人何学成
摘要
氯化铵蚀刻液的充氧装置,反应罐内通过隔板分为反应缸与收集区,反应缸上端外沿有溢流口与收集区相通,反应罐外设置有一循环泵,其联接有伸入隔板上方的反应缸内的送液管道,送液管道上联接充气口,循环泵另一端联接一联接有伸入到隔板下方的吸液管道的沉降池。本发明装置的优点是能有效地用于电子线路板覆膜铜的处理,十分环保,且结构简单,操作方便,有较高的社会与经济效益。

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