用于电解沉积铜涂层的含水的酸性溶液与方法及该溶液的用途

发明专利无效专利

申请号：
CN200480022211.X
IPC分类号：C25D3/38
申请日期：
2004-07-28
申请人：
埃托特克德国有限公司

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著录项信息

专利名称	用于电解沉积铜涂层的含水的酸性溶液与方法及该溶液的用途
申请号	CN200480022211.X	申请日期	2004-07-28
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2006-09-13	公开/公告号	CN1833054
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25D3/38 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25D 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸（印刷电路的金属沉积法制造入H05K 3/18）；工件的电解法接合；所用的装置（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2，6〕 C25D3/00 电镀；其所用的镀液〔2〕 C25D3/02 溶液（C25D 5/24至C25D 5/32优先）〔2〕 C25D3/38 铜的〔2〕	IPC分类号	C;2;5;D;3;/;3;8查看分类表>
申请人	埃托特克德国有限公司	申请人地址	德国柏林变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	埃托特克德国有限公司	当前权利人	埃托特克德国有限公司
发明人	沃尔夫冈·达姆斯;卡尔·克里斯蒂安·费尔斯;京特·鲍尔
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	过晓东

摘要

用于在大面积的金属或塑料部件上电解沉积高度抛光的、装饰性的光亮平滑及水平的铜涂层的酸性水溶液，该溶液含有：a)至少一种含氧的高分子添加剂；及b)至少一种水溶性硫化合物，其中该溶液额外含有c)至少一种具有以下通式(I)的芳族卤素衍生物，其中R1、R2、R3、R4、R5及R6为各自独立地选自以下组中的基团：氢、醛基、乙酰基、羟基、具有1-4个碳原子的羟烷基、具有1-4个碳原子的烷基及卤素，其前提条件是残基R1、R2、R3、R4、R5及R6为卤素的数目在1至5的范围内。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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