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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

双行程运动式磨抛装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320699466.6
  • IPC分类号:B24B9/16
  • 申请日期:
    2013-10-25
  • 申请人:
    浙江正威机械有限公司
著录项信息
专利名称双行程运动式磨抛装置
申请号CN201320699466.6申请日期2013-10-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B9/16IPC分类号B;2;4;B;9;/;1;6查看分类表>
申请人浙江正威机械有限公司申请人地址
浙江省瑞安市飞云街道飞云新区孙鳌公路A-888号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江正威机械有限公司当前权利人浙江正威机械有限公司
发明人吴仕飞;孙建伟;虞臣昌;林立铭;王克求
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种双行程运动式磨抛装置,包括机架(1)、磨抛组件(2),在机架上、并在磨抛组件的两下部处装有凸轮(5),在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7),所述凸轮轴的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。所述凸轮轴的另一端上装有凸轮光电组件(10),该凸轮光电组件能感应凸轮的运动。本实用新型凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动,从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时,磨抛组件到达一高度、一角度,则凸轮光电组件发出信号,动力源停止工作,由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度较高,工作平稳可靠,操作自动化高,提高了工作效率和加工质量,降低了生产成本。

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