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一种采用自抗扰控制技术的移动舞台轨迹跟踪控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710164093.5
  • IPC分类号:G05D3/12;G05B13/04
  • 申请日期:
    2017-03-20
  • 申请人:
    浙江工业大学
著录项信息
专利名称一种采用自抗扰控制技术的移动舞台轨迹跟踪控制方法
申请号CN201710164093.5申请日期2017-03-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-07-14公开/公告号CN106950999A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05D3/12IPC分类号G;0;5;D;3;/;1;2;;;G;0;5;B;1;3;/;0;4查看分类表>
申请人浙江工业大学申请人地址
浙江省杭州市下城区朝晖六区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江工业大学当前权利人浙江工业大学
发明人黄光普;张文安;倪洪杰;杨佳琦;毛文勇;梁先鹏
代理机构杭州浙科专利事务所(普通合伙)代理人周红芳
摘要
本发明公开了一种采用自抗扰控制技术的移动舞台轨迹跟踪控制方法,它采用自抗扰技术设计移动舞台的轨迹跟踪控制,设计自抗扰控制器,将多变量,强耦合的系统解耦为三个子系统,为子系统分别设计自抗扰控制器,将非线性系统做动态补偿线性化处理,提高系统的控制性能,并设计扩张状态观测器有效地将系统模型的不确定性量和系统内外部扰动量来实时估计并补偿,此方法对系统内外扰动以及模型不确定性均具有很强的抑制作用。

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