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在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201980062717.X
IPC分类号：H05G2/00
申请日期：
2019-08-12
申请人：
ASML荷兰有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统
申请号	CN201980062717.X	申请日期	2019-08-12
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2021-05-07	公开/公告号	CN112771999A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05G2/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05G X射线技术（用于放射诊断的仪器入A61B 6/00；X射线治疗入A61N；用X射线测试的入G01N；X射线照相设备入G03B；滤波器、转换屏、显微镜入G21K；X射线管入H01J 35/00；具有X射线输入的电视系统入H04N 5/321） H05G2/00 没有X射线管的、专用于产生X射线的设备或方法，如有等离子产生（X射线激光器入H01S 4/00；一般等离子体技术入H05H）〔5〕	IPC分类号	H;0;5;G;2;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	R·J·拉法克;I·V·福门科夫
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	董莘

摘要

公开了一种用于生成EUV辐射的系统和方法，其中在多级工艺中使用激光来照射靶材料而不改变靶材料，然后照射靶材料以改变靶材料，其中照射台用于在一个或多个照射阶段确定发射定时。

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