具有改进结构的NiW(X)溅射靶

发明专利有效专利

申请号：
CN202011308216.6
IPC分类号：C23C14/34;C23C4/134;C23C4/08;C23C4/16;C23C14/08
申请日期：
2020-11-20
申请人：
万腾荣先进材料德国有限责任公司

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著录项信息

专利名称	具有改进结构的NiW(X)溅射靶
申请号	CN202011308216.6	申请日期	2020-11-20
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-05-25	公开/公告号	CN112831760A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;4;/;1;3;4;;;C;2;3;C;4;/;0;8;;;C;2;3;C;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8查看分类表>
申请人	万腾荣先进材料德国有限责任公司	申请人地址	德国阿尔岑瑙变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	万腾荣先进材料德国有限责任公司	当前权利人	万腾荣先进材料德国有限责任公司
发明人	M·舒尔特斯;M·施洛特
代理机构	北京金信知识产权代理有限公司	代理人	李雪芹;严彩霞

摘要

本发明涉及一种溅射靶，该溅射靶包含Ni、W和任选的一种或多种选自难熔金属、Sn、Al和Si的另外的金属X，其具有0.4以上的归一化的峰强度比PIR＝INi/IW·(AW+Ax)/ANi其中，INi是Ni(111)峰的强度，IW是W(110)峰的强度，Aw是W在靶中的原子百分比分数，Ax是一种或多种选自难熔金属、Sn、Al和Si的另外的金属在靶中的总原子百分比分数，ANi是Ni在靶中的原子百分比分数，并且其中，峰的强度通过使用Cu‑Kalpha照射的X射线粉末衍射测定。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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