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一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910054715.4
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2009-07-13
  • 申请人:
    安集微电子(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液
申请号CN200910054715.4申请日期2009-07-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-01-26公开/公告号CN101957563A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人安集微电子(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安集微电子(上海)有限公司当前权利人安集微电子(上海)有限公司
发明人于昊;彭洪修;刘兵
代理机构上海翰鸿律师事务所代理人李佳铭
摘要
本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液,其含有溶剂、水、氟化物、鳌合剂和聚丙烯酸类表面活性剂。本发明的含氟等离子刻蚀残留物清洗液在半导体晶片清洗中,能够有效清除晶圆刻蚀灰化后的残留物,并能有效的抑制对TiN/Ti/TiN这种三明治结构中Ti的腐蚀,提高了清洗的窗口,同时有效的控制金属和非金属的腐蚀速率。

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