多用对向靶溅射仪

实用新型专利有效专利

申请号：
CN86204865
IPC分类号：--
申请日期：
1986-07-09
申请人：
天津大学

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	多用对向靶溅射仪
申请号	CN86204865	申请日期	1986-07-09
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	天津大学	申请人地址	天津市南开区七里台变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天津大学	当前权利人	天津大学
发明人	姜恩永;刘玉光;李华;张西祥;吕旗;任敬
代理机构	天津大学专利代理事务所	代理人	王国欣

摘要

本实用新型涉及溅射技术领域。其具有两对对向靶，磁场和靶面垂直，并且同电场一起，起到约束等离子体的作用，液氮盒可有效地控制溅射时基板的温度，可连续旋转基板架和带状基板用基板架可保证溅射出的薄膜均匀性更好，故此设备能够实现高速、低温，几乎无偏析的溅射，可以制备多种材料的薄膜，外延单晶薄膜。对于生产和科研提供了快速、方便的良好设备和手段。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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