一种聚焦离子束-电子束双束融合可控微纳加工的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201610046845.3
IPC分类号：B82B3/00;B82Y40/00
申请日期：
2016-01-25
申请人：
北京航空航天大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种聚焦离子束-电子束双束融合可控微纳加工的方法
申请号	CN201610046845.3	申请日期	2016-01-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-06-15	公开/公告号	CN105668514A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B82B3/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B8 微观结构技术；纳米技术 B82 纳米技术〔7〕 B82B 通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理〔7〕 B82B3/00 通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子集合的纳米结构的制造或处理〔7，2006.01〕	IPC分类号	B;8;2;B;3;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人	北京航空航天大学	申请人地址	北京市海淀区学院路37号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京航空航天大学	当前权利人	北京航空航天大学
发明人	李文萍;王荣明;崔益民
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种聚焦离子束‑电子束双束融合可控微纳加工的方法，通过综合考虑实际系统的像差以及空间电荷效应分别获得离子束和电子束三维束流密度分布，并依据系统的空间布局将双束融合成同步粒子束，获得高精度的双束融合可控微纳加工。首先，获取源、透镜、偏转器和样品等参数，计算透镜和偏转器的二维场、三维场和电气参数；然后，在给定初始条件下求解牛顿‑洛仑兹方程组得到包括像差和离子(电子)库仑力效应的离子(电子)束三维束流密度分布；最后，考虑双束系统装配结构，逆时针旋转离子束，在库仑力作用下融合离子束和电子束，实现双束同步可控加工；优点在于，电子束对离子束束流密度分布的控制，提高了加工的精度和质量。

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