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一种低介电常数疏水聚酰亚胺薄膜及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010631108.6
  • IPC分类号:C08G73/10;C08G77/455;C08K9/06;C08K7/24;C08J5/18;C08L79/08;C08L83/10
  • 申请日期:
    2020-07-03
  • 申请人:
    浙江中科玖源新材料有限公司
著录项信息
专利名称一种低介电常数疏水聚酰亚胺薄膜及其制备方法
申请号CN202010631108.6申请日期2020-07-03
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-09-08公开/公告号CN111635525A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08G73/10IPC分类号C;0;8;G;7;3;/;1;0;;;C;0;8;G;7;7;/;4;5;5;;;C;0;8;K;9;/;0;6;;;C;0;8;K;7;/;2;4;;;C;0;8;J;5;/;1;8;;;C;0;8;L;7;9;/;0;8;;;C;0;8;L;8;3;/;1;0查看分类表>
申请人浙江中科玖源新材料有限公司申请人地址
浙江省金华市兰溪市兰江街道兰溪经济开发区光膜小镇 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江中科玖源新材料有限公司当前权利人浙江中科玖源新材料有限公司
发明人金文斌
代理机构合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)代理人刘勇
摘要
本发明公开了一种低介电常数疏水聚酰亚胺薄膜,其原料包括:二胺单体、二酐单体、八(氨基苯基三氧硅烷)和改性TS‑1分子筛;其中,改性TS‑1分子筛的添加量为各原料总重的1‑2wt%。本发明还公开了上述低介电常数疏水聚酰亚胺薄膜的制备方法。本发明具有较低的介电常数,且具有疏水性能。

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