具有抑菌功能的红外辐射陶瓷釉层及其制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN01128407.2
IPC分类号：--
申请日期：
2001-09-04
申请人：
武汉理工大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	具有抑菌功能的红外辐射陶瓷釉层及其制备方法
申请号	CN01128407.2	申请日期	2001-09-04
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2002-02-27	公开/公告号	CN1337379
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	武汉理工大学	申请人地址	湖北省武汉市武昌珞狮路122号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉理工大学	当前权利人	武汉理工大学
发明人	徐庆;陈文;马怀义;尹述标;陈袁魁;朱楚才;高长兵;黄学辉;杨明;周静;张枫;胡勇胜;郑锦霞;杨子平;黄端平
代理机构	武汉天力专利事务所	代理人	程祥;冯卫平

摘要

本发明涉及一种具有抑菌功能的红外辐射陶瓷釉层及其制备方法，该釉层的主要组成为钾长石、SiO2、CaCO3、ZnO、滑石、ZrSiO4、粘土、BaCO3、乳浊性熔块、着色剂和红外辐射陶瓷粉料，将上述组成范围内的各种成分混合后采用陶瓷加工技术制备红外辐射陶瓷釉层。经红外辐射性测试证明，本发明的红外辐射陶瓷釉层的全波段法向比辐射率为0.82-0.83，不同颜色釉层的红外辐射性能基本相当。经抑菌功能的定性和定量检测证明，本发明的红外辐射陶瓷釉层对霉菌及多和革兰氏阴性菌、革兰氏阳性菌都有明显的抑制作用。红外辐射釉层对上述菌种的抑菌率达到91.87%-100%。本发明制法简单，制造成本较低、本发明可应用在建筑陶瓷中，特别是在厨房、卫生间、医院、幼儿园、餐馆等场所具有较强的实用性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供