首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种薄膜、图案层及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110280028.1
  • IPC分类号:H01L21/20H01L21/768
  • 申请日期:
    2011-09-20
  • 申请人:
    深圳市华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称一种薄膜、图案层及其制造方法
申请号CN201110280028.1申请日期2011-09-20
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2011-12-21公开/公告号CN102290336A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/20IPC分类号H01L21/20;H01L21/768查看分类表>
申请人深圳市华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区公明办事处塘家社区观光路汇业科技园综合楼1第一*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市华星光电技术有限公司当前权利人深圳市华星光电技术有限公司
发明人郑文达
代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)代理人何青瓦;丁建春
摘要
本发明提供了一种图案层及其制造方法。该图案层的制造方法包括:在基板上进行镀膜,同时控制镀膜参数随时间变化,以在基板上形成膜质随镀膜厚度变化的薄膜;对薄膜进行蚀刻,使得薄膜的侧向蚀刻速率随膜质变化,进而形成具有预定曲率的侧面的图案层。本发明还提供了一种薄膜。通过上述方式,能够通过膜质变化来控制薄膜的侧向蚀刻速率。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供